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次世代半導体を支える多元系窒化物ヘテロエピタキシー

持続的な半導体技術の発展に向けて、ワイドバンドギャップ窒化物半導体による多様な薄膜多層構造の形成、ならびにそれを用いた光・電子デバイス応用について、実験とシミュレーションを駆使した研究開発を実施しています。

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「三好 実人」の研究シーズ一覧

次世代半導体を支える多元系窒化物ヘテロエピタキシー

三好 実人(教授)
  • 電気・機械工学
  • 2024
持続的な半導体技術の発展に向けて、ワイドバンドギャップ窒化物半導体による多様な薄膜多層構造の形成、ならびにそれを用いた光・電子デバイス応用について、実...
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