酸化物半導体の非真空成膜
安部 功二 (准教授)
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真空を使わない成膜方法（ディップコーティング、電気化学堆積法）のプロセスを工夫し、低抵抗率の酸化亜鉛薄膜の成膜やナノ構造の形成を可能にしました。
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酸化物半導体の非真空成膜
安部 功二(准教授)- 電気・機械工学
- 2022
真空を使わない成膜方法（ディップコーティング、電気化学堆積法）のプロセスを工夫し、低抵抗率の酸化亜鉛薄膜の成膜やナノ構造の形成を可能にしました。
